量子知能デバイス研究室・谷田部准教授と熊本大学の研究グループによる研究成果 “Deposition of ternary hafnium aluminum oxide alloy thin films via single-source mist chemical vapor deposition” が、日本セラミックス協会が発行する国際学術誌 Journal of the Ceramic Society of Japan 2026年5月号に掲載され、Cover of the Monthに選出されました。
Cover
DOI: 10.2109/jcersj2.134.H5-1
論文情報
題目: Deposition of ternary hafnium aluminum oxide alloy thin films via single-source mist chemical vapor deposition
著者: Thin Nu Soe, Yusui Nakamura, Zenji Yatabe
論文誌: J. Ceram. Soc. Jpn. 134, 341 (2026)
DOI: 10.2109/jcersj2.25166