研究体制・研究設備

研究体制

本研究センターは、「先進ナノ電子材料研究室」「量子知能デバイス研究室」「機能通信センシング研究室」「集積電子デバイス研究室(協力研究室)」の4つの研究室からなります。本研究センターでは、これらの4研究室が一体となって、半導体量子ナノ構造を高密度に集積化することにより、高機能・高性能・超高密度・超低消費電力の電子およびフォトニック集積システムを実現するために必要とされる新しい科学と技術を創り出す研究を行っております。

先進ナノ電子材料研究分野教授1名、准教授1名、助教1名*
量子知能デバイス研究分野(教授1名、准教授1名)
機能通信センシング研究分野(教授1名、准教授1名)
集積電子デバイス研究分野(教授1名、准教授1名)

助教*:全学運用教員が認められ、平成20年度~平成24年度の期間設置された
共通研究スタッフ:客員教授2名,技術専門職員1名 

研究設備






図1 表面反応制御形量子界面形成加工評価システム

図1 表面反応制御形量子界面形成加工評価システム


図2 自己組織化による化合物半導体量子構造を形成する有機金属気相成長装置。 図3 ナノメートルサイズでのレジストパターン形成が可能な電子ビーム描画装置。 図4 0.6ナノメートルの分解能で微細構造を観測できる走査型電子顕微鏡。

図2
自己組織化による化合物半導体量子構造を形成する有機金属気相成長装置。

図3
ナノメートルサイズでのレジストパターン形成が可能な電子ビーム描画装置。

図4
0.6ナノメートルの分解能で微細構造を観測できる走査型電子顕微鏡。

図5 mKの極低温を実現する希釈冷凍機。

図5
mKの極低温を実現する希釈冷凍機。

図6 超高真空非接触容量-電圧測定装置

図6
超高真空非接触容量-電圧測定装置:超高真空で測定電極を試料表面から100~300nmの位置まで近づけ、非接触状態で半導体自由表面および加工表面、あるいは極薄絶縁膜/半導体界面に対して容量-電圧測定を行うことを可能とした。

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